Станция очистки и полимеризации Creality UW-03

Описание

Станция UW-03 представляет собой интегрированное решение, объединяющее два критически важных этапа постобработки фотополимерных моделей в едином компактном устройстве. Система разработана на основе анализа гидродинамических процессов и характеристик УФ-полимеризации различных типов смол. Исполнительный механизм очистки базируется на магнитном приводе, обеспечивающем вращение лопасти с частотой до 500 об/мин, что создает турбулентный поток очищающей жидкости вокруг модели. Благодаря усовершенствованной форме крыльчатки скорость формирования вихревого потока на 31% выше по сравнению с типовыми решениями, что значительно ускоряет процесс удаления остаточного фотополимера с поверхности и из полостей сложных моделей.

Система полимеризации реализована через матрицу из 18 высокомощных УФ-светодиодов с длиной волны 405 нм, оптимизированной для большинства современных фотополимерных материалов. Геометрия расположения источников света обеспечивает равномерное 360-градусное облучение модели, а интенсивность излучения более 20000 мкВт/см² в центральной зоне гарантирует эффективное отверждение даже массивных объектов. Поворотный стол с регулируемой скоростью вращения исключает образование недоэкспонированных участков, что критически важно для механических характеристик готовых изделий.

Прямоугольная форма рабочей платформы UW-03 представляет собой значительное преимущество перед традиционными круглыми системами, обеспечивая оптимальное использование рабочего пространства для моделей различных геометрических форм. Периметр платформы оборудован специальным бортиком и четырьмя дополнительными круглыми опорами, предотвращающими смещение моделей в процессе вращения. Такая конфигурация минимизирует риск повреждения хрупких элементов при постобработке и обеспечивает стабильное позиционирование даже при высоких скоростях вращения.

Универсальная корзина из нержавеющей стали сконструирована с учетом оптимального соотношения прочности и проницаемости для жидкости, что позволяет использовать её как при очистке (в погруженном или подвешенном состоянии), так и при отверждении. Контейнер для промывочной жидкости изготовлен из химически стойкого полипропилена с герметичным уплотнением, исключающим утечки и испарение органических растворителей в процессе хранения и использования.

Интуитивно понятный интерфейс с физическими кнопками обеспечивает точную настройку параметров обработки в зависимости от типа фотополимера и геометрической сложности модели. Регулируемый таймер (5-30 минут) и два режима скорости (быстрый/нормальный) позволяют оптимизировать процесс постобработки для широкого спектра материалов и типов моделей, максимизируя эффективность без ущерба для качества конечного результата.

Многоуровневая система безопасности включает тонированную крышку, блокирующую 99,9% ультрафиолетового излучения, что исключает негативное воздействие на глаза оператора. Интегрированный датчик контроля положения крышки автоматически остановит процесс полимеризации при её открытии, обеспечивая полную защиту пользователя. Герметичная конструкция контейнера для очистки предотвращает проливание и испарение очищающих жидкостей, минимизируя воздействие потенциально опасных веществ на окружающую среду и оператора.

Объем камеры очистки (210×160×200 мм) и зоны отверждения (215×165×300 мм) позволяет обрабатывать как одиночные крупногабаритные модели, так и партии мелких изделий, что особенно ценно при мелкосерийном производстве. Комбинация интенсивного гидродинамического потока и равномерного УФ-излучения обеспечивает безупречное качество постобработки: модели полностью очищаются от остаточного неполимеризованного материала, а последующее отверждение значительно улучшает механические свойства изделий, повышая их прочность, твердость и долговечность.

UW-03 оптимально сочетает компактные габариты (325×303×436 мм) с высокой функциональностью, что делает устройство идеальным решением как для профессиональных студий 3D-печати, так и для индивидуальных пользователей, работающих с фотополимерными технологиями в условиях ограниченного пространства.